एचडीपीई सेलुलर ग्रिड 250 मिमी 660 मिमी तटबंध आधार और गहरी मिट्टी के समर्थन के लिए

एचडीपीई सेलुलर ग्रिड 250 मिमी 660 मिमी तटबंध आधार और गहरी मिट्टी समर्थन के लिए

जियोमैक्स 250 मिमी एचडीपीई सेलुलर ग्रिड तटबंध नींव और गहरी मिट्टी समर्थन अनुप्रयोगों के लिए डिज़ाइन किया गया है जिसमें बढ़ी हुई भरने की गहराई की आवश्यकता होती है।विस्तार करने योग्य कोशिका संरचना से बड़ी त्रि-आयामी कोशिकाएं बनती हैं जिनमें पर्याप्त मात्रा में चक्की होती है, कुचल कच्चे माल या चयनित मिट्टी।

उत्पाद विनिर्देश

250 मिमी ग्रिड ऊंचाई प्रबलित नींव परतों के लिए गहरी कैद प्रदान करती है।660 मिमी वेल्ड पिच बड़े सेलुलर उद्घाटन बनाता है जो भरने की सामग्री की महत्वपूर्ण मात्रा की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त हैं.

स्थापना के दौरान, तैयार नींव पर तह किए गए एचडीपीई सेलुलर ग्रिड पैनलों का विस्तार किया जाता है और उन्हें सुरक्षित किया जाता है। फिर चक्की, कुचल पत्थर या चयनित मिट्टी को कोशिकाओं में भर दिया जाता है और compacted किया जाता है।ग्रिड दीवारों भरने के क्षैतिज आंदोलन को नियंत्रित करने और प्रबलित परत बनाए रखने में मदद.

लचीला एचडीपीई निर्माण सेलुलर ग्रिड को जमीन प्रोफाइल में मध्यम परिवर्तनों का पालन करने की अनुमति देता है। अल्ट्रासोनिक वेल्डेड कनेक्शन विस्तार और भरने के दौरान सेलुलर पैटर्न को बनाए रखने में मदद करते हैं।

अनुप्रयोगों में तटबंध आधार, गहरी सड़क नींव, नरम मिट्टी समर्थन, निर्माण कार्य प्लेटफार्म और बुनियादी ढांचे के स्थिरीकरण क्षेत्र शामिल हैं।एचडीपीई सेलुलर ग्रिड विशेष रूप से उन परियोजनाओं के लिए उपयुक्त है जहां गहरी कैप्चर निर्दिष्ट है.

इसकी तह संरचना साइट पर विस्तार से पहले परिवहन को सरल बनाती है।जियोमैक्स परियोजना डिजाइन और जमीन की स्थिति के अनुसार विभिन्न ऊंचाइयों और वेल्ड आयामों का उपयोग करके अतिरिक्त सेलुलर ग्रिड कॉन्फ़िगरेशन प्रदान कर सकता है.